Procedimiento para la preparación de una capa o multicapa barrera y/o dieléctrica sobre un sustrato y dispositivo para su realización

Título alternativo: Method for producing a dielectric and/or barrier layer or multilayer on a substrate, and device for
Tipo: Patente
Solicitantes:
Abengoa Solar New Technologies, S.A (100%)
Inventores:
Gil Rostra, Jorge
Rico Gavira, Victor
Yubero Valencia, Francisco
Espinós Manzorro, Juan Pedro
Rodríguez González-Elipe, Agustín
Sánchez Cortezón, Emilio
Solicitud
27-11-2013
Concesión
18-05-2016
Familia
ES2542252R1; WO2014083218A1; US2015325418A1; KR20150099764A; EP2738790A1; CN104955978A; PCT/ES2013/000264
Procedimiento para la preparación de una capa o multicapa barrera y/o dieléctrica sobre un sustrato y dispositivo para su realización.La presente invención se refiere a un procedimiento para la preparación de capas barrera y/o dieléctricas sobre un sustrato caracterizado por que comprende las siguientes etapas: (a) limpieza de sustratos, (b) colocación del sustrato en un portamuestras e introducción del mismo en el interior de una cámara de vacío, (c) dosificación en dicha cámara de vacío de un gas inerte y un gas reactivo, (d) inyección en la cámara de vacío de un precursor volátil que tenga al menos un catión del compuesto a depositar, (e) activación de una fuente de radiofrecuencia y activación de al menos un magnetrón, (f) descomposición del precursor volátil por plasma, produciéndose la reacción entre el catión del precursor volátil y el gas reactivo al mismo tiempo que se produce la reacción entre el gas reactivo contenido en el plasma con el catión procedente del blanco por pulverización catódica, provocando así la deposición de la película sobre el sustrato. Es también objeto de la invención el dispositivo para llevar a cabo dicho procedimiento.
Materia: Química; Metalurgia / Electricidad
CIP: C23C14/10 (2006.01); C23C14/35 (2006.01); C23C16/40 (2006.01); C23C16/509 (2006.01); H01J37/34 (2006.01)