Growth mechanism and chemical structure of amorphous hydrogenated silicon carbide (a-SiC:H) films formed by remote hydrogen microwave plasma CVD from a triethylsilane precursor: part 1

Wrobel, Aleksander M. ; Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka; Ahola, Marja; Vayrynen, I. Juhani; Ferrer Fernández, Francisco Javier; Rodríguez González-Elipe, Agustín

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2009
Volumen: 15
Número: 1-3
Páginas: 39 - 46
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2404-12-2021
wos2404-12-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2009

Factor de Impacto (SCIE): 1.829

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE2/17Q1T1D2
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE20/66Q2T1D4
ELECTROCHEMISTRYSCIE13/24Q3T2D6

Año:

2011

CiteScore:

2.900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Chemistry86/351Q1T1D3
Surfaces and Interfaces15/49Q2T1D4
Process Chemistry and Technology13/36Q2T2D4

SJR año:

2009

Factor de Impacto:

1.043

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)64/389Q1T1D2
Process Chemistry and Technology8/41Q1T1D2
Surfaces and Interfaces18/56Q2T1D4
No existen datos para la revista de esta publicación.
No exiten datos para esta publicación
# Autor Afiliación
1Wrobel, Aleksander M. Institute - Center for Molecular and Macromolecular Studies of the Polish Academy of Sciences (Poland)
2Walkiewicz-Pietrzykowska, AgnieszkaInstitute - Center for Molecular and Macromolecular Studies of the Polish Academy of Sciences (Poland)
3Ahola, MarjaTurun yliopisto (Finland)
4Vayrynen, I. JuhaniTurun yliopisto (Finland)
5Ferrer Fernández, Francisco JavierCSIC-JA-USE - Centro Nacional de Aceleradores (CNA) (Spain)
6Rodríguez González-Elipe, AgustínCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)