Electrochromic behavior of W xSi yO z thin films prepared by reactive magnetron sputtering at normal and glancing angles

Gil-Rostra, Jorge; Cano, Manuel; Pedrosa, José M.; Ferrer, Francisco Javier; García-García, Francisco; Yubero, Francisco; González-Elipe, Agustín R. 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2012
Volumen: 4
Número: 2
Páginas: 628 - 638
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus4227-11-2021
wos4127-11-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2012

Factor de Impacto (SCIE): 5.008

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARYSCIE26/241Q1T1D2
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGYSCIE18/69Q2T1D3

Año:

2012

CiteScore:

6.100

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Materials Science32/408Q1T1D1

SJR año:

2012

Factor de Impacto:

2.199

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Materials Science (miscellaneous)28/502Q1T1D1
Medicine (miscellaneous)121/2833Q1T1D1
Nanoscience and Nanotechnology18/93Q1T1D2
No existen datos para la revista de esta publicación.
Agencia Código de Proyecto
Junta de AndaluciaP09-CTS- 5189; TEP5283; FQM-6900
Ministry of Science and InnovationCSD2008-00023; MAT2010-21228; MAT2010-18447
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Gil-Rostra, JorgeCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Cano, ManuelUniversidad Pablo de Olavide (Spain)
3Pedrosa, José M.Universidad Pablo de Olavide (Spain)
4Ferrer, Francisco JavierCSIC-JA-USE - Centro Nacional de Aceleradores (CNA) (Spain)
5García-García, FranciscoSin datos ()
6Yubero, FranciscoCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
7González-Elipe, Agustín R. CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)