Preparation of Al2O3 thin films by ion-beam-induced CVD: Structural effects of the bombardment with accelerated ions

Caballero, A; Leinen, D; Fernandez, A; GonzalezElipe, AR

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1996
Volumen: 80
Número: 1-2
Páginas: 23 - 26
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1609-10-2021
wos1709-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 1997

Factor de Impacto (SCIE): 0.892

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE4/13Q2T1D4

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

1.042

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)40/318Q1T1D2
Materials Chemistry33/206Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films13/94Q1T1D2
Condensed Matter Physics68/311Q1T1D3
Surfaces and Interfaces14/46Q2T1D4
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# Autor Afiliación
1Caballero, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Leinen, DCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Fernandez, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4GonzalezElipe, ARCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)