Ion beam induced chemical vapor deposition procedure for the preparation of oxide thin films .2. Preparation and characterization of AlxTiyOz thin films

Leinen, D; Lassaletta, G; Fernandez, A; Caballero, A; GonzalezElipe, AR; Martin, JM; Vacher, B

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1996
Volumen: 14
Número: 5
Páginas: 2842 - 2848
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus4009-10-2021
wos4209-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 1997

Factor de Impacto (SCIE): 1.576

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE2/13Q1T1D2
PHYSICS, APPLIEDSCIE13/62Q1T1D3

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

1.602

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics30/311Q1T1D1
Surfaces, Coatings and Films7/94Q1T1D1
Surfaces and Interfaces7/46Q1T1D2
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# Autor Afiliación
1Leinen, DCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Lassaletta, GCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Fernandez, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Caballero, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5GonzalezElipe, ARCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6Martin, JMEcole Centrale de Lyon (France)
7Vacher, BEcole Centrale de Lyon (France)