Chemical stability of Sin+ species in SiOx (x < 2) thin films

Barranco, A; Mejias, JA; Espinos, JP; Caballero, A; Gonzalez-Elipe, AR; Yubero, F 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2001
Volumen: 19
Número: 1
Páginas: 136 - 144
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus5516-10-2021
wos5716-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2001

Factor de Impacto (SCIE): 1.448

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE3/16Q1T1D2
PHYSICS, APPLIEDSCIE19/71Q2T1D3

SJR año:

2001

Factor de Impacto:

1.318

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Surfaces, Coatings and Films9/96Q1T1D1
Condensed Matter Physics51/322Q1T1D2
Surfaces and Interfaces10/49Q1T1D3
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# Autor Afiliación
1Barranco, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Mejias, JAUniversidad Pablo de Olavide (Spain)
3Espinos, JPCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Caballero, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Gonzalez-Elipe, ARCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6Yubero, F CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)