Ion-beam-induced CVD: An alternative method of thin film preparation

Espinos, JP ; Fernandez, A; Caballero, A; Jimenez, VM; SanchezLopez, JC; Contreras, L; Leinen, D; GonzalezElipe, AR

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1997
Volumen: 3
Número: 4
Páginas: 219 - 226
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2016-10-2021
wos2816-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 1997

Factor de Impacto (SCIE): 1.360

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE3/13Q1T1D3
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE16/45Q2T2D4
ELECTROCHEMISTRYSCIE4/9Q2T2D5

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

1.182

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)33/318Q1T1D2
Process Chemistry and Technology7/41Q1T1D2
Surfaces and Interfaces10/46Q1T1D3
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# Autor Afiliación
1Espinos, JP Universidad de Sevilla (Spain)
2Fernandez, AUniversidad de Sevilla (Spain)
3Caballero, AUniversidad de Sevilla (Spain)
4Jimenez, VMUniversidad de Sevilla (Spain)
5SanchezLopez, JCUniversidad de Sevilla (Spain)
6Contreras, LUniversidad de Sevilla (Spain)
7Leinen, DUniversidad de Malaga (Spain)
8GonzalezElipe, ARUniversidad de Sevilla (Spain)