Ion-beam-induced CVD: An alternative method of thin film preparation

Espinos, JP ; Fernandez, A; Caballero, A; Jimenez, VM; SanchezLopez, JC; Contreras, L; Leinen, D; GonzalezElipe, AR

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1997
Volumen: 3
Número: 4
Páginas: 219 - 226
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2113-08-2022
wos2913-08-2022
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 1997

Journal Impact Factor (JIF): 1.360

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE3/13Q1T1D3
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE16/45Q2T2D4
ELECTROCHEMISTRYSCIE4/9Q2T2D5

Año:

2011

CiteScore:

2.900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Chemistry86/351Q1T1D3
Surfaces and Interfaces15/49Q2T1D4
Process Chemistry and Technology13/36Q2T2D4

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

1.182

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)33/318Q1T1D2
Process Chemistry and Technology7/41Q1T1D2
Surfaces and Interfaces10/46Q1T1D3
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# Autor Afiliación
1Espinos, JP Universidad de Sevilla (Spain)
2Fernandez, AUniversidad de Sevilla (Spain)
3Caballero, AUniversidad de Sevilla (Spain)
4Jimenez, VMUniversidad de Sevilla (Spain)
5SanchezLopez, JCUniversidad de Sevilla (Spain)
6Contreras, LUniversidad de Sevilla (Spain)
7Leinen, DUniversidad de Malaga (Spain)
8GonzalezElipe, ARUniversidad de Sevilla (Spain)