Removal of NO in NO/N-2, NO/N-2/O-2, NO/CH4/N-2, and NO/CH4/O-2/N-2 systems by flowing microwave discharges

Hueso, JL; Gonzalez-Elipe, AR; Cotrino, J ; Caballero, A

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2007
Volumen: 111
Número: 6
Páginas: 1057 - 1065
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2716-10-2021
wos2216-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2007

Factor de Impacto (SCIE): 2.918

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, ATOMIC, MOLECULAR & CHEMICALSCIE6/32Q1T1D2
CHEMISTRY, PHYSICALSCIE28/111Q2T1D3

SJR año:

2007

Factor de Impacto:

1.951

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Medicine (miscellaneous)110/2752Q1T1D1
Physical and Theoretical Chemistry17/138Q1T1D2
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# Autor Afiliación
1Hueso, JLCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Gonzalez-Elipe, ARCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Cotrino, J Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Caballero, AUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)