Removal of NO in NO/N-2, NO/N-2/O-2, NO/CH4/N-2, and NO/CH4/O-2/N-2 systems by flowing microwave discharges

Hueso, JL; Gonzalez-Elipe, AR; Cotrino, J ; Caballero, A

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2007
Volumen: 111
Número: 6
Páginas: 1057 - 1065
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2724-09-2022
wos2224-09-2022
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2007

Journal Impact Factor (JIF): 2.918

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, ATOMIC, MOLECULAR & CHEMICALSCIE6/32Q1T1D2
CHEMISTRY, PHYSICALSCIE28/111Q2T1D3

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,740

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
CHEMISTRY, PHYSICAL59/156Q2T2D462,50
PHYSICS, ATOMIC, MOLECULAR & CHEMICAL19/40Q2T2D553,75

Año:

2011

CiteScore:

4.900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Medicine743/3161Q1T1D3
Physical and Theoretical Chemistry29/136Q1T1D3

SJR año:

2007

Factor de Impacto:

1.951

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Medicine (miscellaneous)110/2752Q1T1D1
Physical and Theoretical Chemistry17/138Q1T1D2
No existen datos para la revista de esta publicación.
No exiten datos para esta publicación
# Autor Afiliación
1Hueso, JLCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Gonzalez-Elipe, ARCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Cotrino, J Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Caballero, AUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)