Interface effects for Cu, CuO, and Cu2O deposited on SiO2 and ZrO2. XPS determination of the valence state of copper in Cu/SiO2 and Cu/ZrO2 catalysts

Espinós, J. P. ; Morales, J.; Barranco, A.; Caballero, A.; Holgado, J. P.; González-Elipe, A. R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2002
Volumen: 106
Número: 27
Páginas: 6921 - 6929
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus45316-10-2021
wos43716-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2002

Factor de Impacto (SCIE): 3.611

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
CHEMISTRY, PHYSICALSCIE14/95Q1T1D2

SJR año:

2002

Factor de Impacto:

2.201

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Materials Chemistry6/225Q1T1D1
Medicine (miscellaneous)53/2829Q1T1D1
Physical and Theoretical Chemistry10/133Q1T1D1
Surfaces, Coatings and Films3/98Q1T1D1
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# Autor Afiliación
1Espinós, J. P. CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Morales, J.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Barranco, A.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Caballero, A.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Holgado, J. P.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6González-Elipe, A. R.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)