Continuous location under the effect of 'refraction'

Blanco, V ; Puerto, J; Ponce, D

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2017
Volumen: 161
Número: 1-2
Páginas: 33 - 72
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus327-11-2021
wos327-11-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2017

Factor de Impacto (SCIE): 2.665

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATHEMATICS, APPLIEDSCIE13/252Q1T1D1
COMPUTER SCIENCE, SOFTWARE ENGINEERINGSCIE15/104Q1T1D2
OPERATIONS RESEARCH & MANAGEMENT SCIENCESCIE18/84Q1T1D3

Año:

2017

CiteScore:

5.400

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Mathematics10/335Q1T1D1
Software69/370Q1T1D2

SJR año:

2017

Factor de Impacto:

2.490

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Mathematics (miscellaneous)21/372Q1T1D1
Software6/329Q1T1D1
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Agencia Código de Proyecto
Junta de Andalucia\FEDERFQM-5849
MICINN, SpainMTM2010-19576-C02-01; MTM2013-46962-C2-1-P
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Blanco, V Universidad de Granada (Spain)
2Puerto, JUniversidad de Sevilla (Spain)
3Ponce, DUniversidad de Sevilla (Spain)