Electronic interactions at SiO2/M ' O-x (M ': Al, Ti) oxide interfaces

Barranco, A; Yubero, F; Mejias, JA; Espinos, JP; Gonzalez-Elipe, AR 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2001
Volumen: 482
Páginas: 680 - 686
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1621-01-2023
wos1621-01-2023
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2001

Journal Impact Factor (JIF): 2.189

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
CHEMISTRY, PHYSICALSCIE28/93Q2T1D4

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,500

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
CHEMISTRY, PHYSICAL86/156Q3T2D645,19
PHYSICS, CONDENSED MATTER37/74Q2T2D550,68

Año:

2011

CiteScore:

3.900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics70/383Q1T1D2
Materials Chemistry30/233Q1T1D2
Surfaces and Interfaces9/49Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films12/91Q1T1D2

SJR año:

2001

Factor de Impacto:

1.812

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics24/322Q1T1D1
Materials Chemistry10/215Q1T1D1
Surfaces, Coatings and Films5/96Q1T1D1
Surfaces and Interfaces7/49Q1T1D2
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# Autor Afiliación
1Barranco, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Yubero, FCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Mejias, JAUniversidad Pablo de Olavide (Spain)
4Espinos, JPCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Gonzalez-Elipe, AR CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)