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Atomic layer deposition of hafnium oxide from hafnium chloride and water

Mukhopadhyay, Atashi B.; Musgrave, Charles B.; Sanz, Javier Fdez 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2008
Volumen: 130
Número: 36
Páginas: 11996 - 12006
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus4613-04-2024
wos4413-04-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2008

Journal Impact Factor (JIF): 8,091

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARYSCIE7/127Q1T1D1

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 2,960

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
CHEMISTRY, MULTIDISCIPLINARY5/205Q1T1D197,81

Año:

2011

CiteScore:

16,100

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Biochemistry9/354Q1T1D1
Catalysis3/40Q1T1D1
Colloid and Surface Chemistry1/12Q1T1D1
General Chemistry8/351Q1T1D1

SJR año:

2008

Factor de Impacto:

5,060

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Biochemistry10/318Q1T1D1
Catalysis2/33Q1T1D1
Chemistry (miscellaneous)7/375Q1T1D1
Colloid and Surface Chemistry1/17Q1T1D1
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Agencia Código de Proyecto
aterials Structures and Devices SRC/DARPA MARCO Center-
European FEDERMAT2008-04918
Ministerio de Educacion y Ciencia-
Spanish Ministerio de Educacion y Ciencia-
Stanford Initiative for Nanoscale Materials and Processing-
Universidad de Sevilla and Stanford University-
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Mukhopadhyay, Atashi B.Stanford University (United States)
2Musgrave, Charles B.Stanford University (United States)
3Sanz, Javier Fdez Universidad de Sevilla (Spain)