Nanostructured Ti thin films by magnetron sputtering at oblique angles

Alvarez, R. ; Garcia-Martin, J. M.; Garcia-Valenzuela, A.; Macias-Montero, M.; Ferrer, F. J.; Santiso, J.; Rico, V.; Cotrino, J.; Gonzalez-Elipe, A. R.; Palmero, A.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2016
Volumen: 49
Número: 4
Acceso abierto: Vía verde
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus4423-10-2021
wos4023-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2016

Factor de Impacto (SCIE): 2.588

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE44/148Q2T1D3

SJR año:

2016

Factor de Impacto:

1.135

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Acoustics and Ultrasonics3/43Q1T1D1
Condensed Matter Physics60/399Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials32/205Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films13/111Q1T1D2
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Agencia Código de Proyecto
Fundacion Domingo Martinez-
Junta de AndaluciaP12-FQM-2265
Ministry of Science and InnovationCONSOLIDER CSD2008-00023; MAT2013-42900-P; MAT2013-40852-R; MAT2014-59772-C2-1; MAT2011-29081
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Alvarez, R. CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Garcia-Martin, J. M.IMN-Instituto de Micro y Nanotecnología (CNM-CSIC) (Spain)
3Garcia-Valenzuela, A.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Macias-Montero, M.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Ferrer, F. J.CSIC-JA-USE - Centro Nacional de Aceleradores (CNA) (Spain)
6Santiso, J.Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia (Spain)
7Rico, V.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
8Cotrino, J.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
9Gonzalez-Elipe, A. R.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
10Palmero, A.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)