c- C4F8 Plasmas for the Deposition of Fluorinated Carbon Films

Terriza, Antonia; MacÍas-Montero, Manuel; Lõpez-Santos, Maria C.; Yubero, Francisco; Cotrino, José; González-Elipe, Agustín R. 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2014
Volumen: 11
Número: 3
Páginas: 289 - 299
Acceso abierto: Vía verde
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus718-09-2021
wos718-09-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2014

Factor de Impacto (SCIE): 2.453

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE35/144Q1T1D3
PHYSICS, FLUIDS & PLASMASSCIE7/31Q1T1D3
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE19/67Q2T1D3
POLYMER SCIENCESCIE25/82Q2T1D4

SJR año:

2014

Factor de Impacto:

0.856

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Polymers and Plastics27/154Q1T1D2
Condensed Matter Physics101/395Q2T1D3
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Agencia Código de Proyecto
Junta de AndaluciaP12-FQM-2265; TEP-08067; P10-FQM-6900
Ministry of Science and InnovationRECUPERA 2020; CSD2008-00023; MAT2010-21228; MAT2010-18447
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Terriza, AntoniaCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2MacÍas-Montero, ManuelCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Lõpez-Santos, Maria C.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Yubero, FranciscoCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Cotrino, JoséUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6González-Elipe, Agustín R. CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)