Influence of plasma-generated negative oxygen ion impingement on magnetron sputtered amorphous SiO2 thin films during growth at low temperatures

MacIas-Montero, M. ; Garcia-Garcia, F. J.; Álvarez, R.; Gil-Rostra, J.; González, J. C.; Cotrino, J.; Gonzalez-Elipe, A. R.; Palmero, A.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2012
Volumen: 111
Número: 5
Número de artículo: 054312
Páginas: 054312-1 - 054312-6
Acceso abierto: Vía verde
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2723-10-2021
wos2523-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2012

Factor de Impacto (SCIE): 2.210

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE32/128Q1T1D3

SJR año:

2012

Factor de Impacto:

1.312

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Physics and Astronomy (miscellaneous)38/243Q1T1D2
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Agencia Código de Proyecto
CSIC at ICMS-CSIC-US (Spain)20092012
Junta de AndaluciaTEP2275; TEP5283; P07-FQM-03298; P10-FQM-6900
Spanish Ministry of InnovationMAT 2007-65764; CONSOLIDER INGENIO 2010-CSD2008-00023
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1MacIas-Montero, M. CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Garcia-Garcia, F. J.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Álvarez, R.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Gil-Rostra, J.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5González, J. C.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6Cotrino, J.Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
7Gonzalez-Elipe, A. R.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
8Palmero, A.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)