Atomistic model of ultra-smooth amorphous thin film growth by low-energy ion-assisted physical vapour deposition

Alvarez, R. ; Vazquez, L.; Gago, R.; Redondo-Cubero, A.; Cotrino, J.; Palmero, A.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2013
Volumen: 46
Número: 39
Páginas: 395303-1 - 395303-8
Acceso abierto: Vía verde
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus603-12-2022
wos403-12-2022
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2013

Journal Impact Factor (JIF): 2.521

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE30/136Q1T1D3

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,620

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
PHYSICS, APPLIED63/165Q2T2D462,12

Año:

2013

CiteScore:

4.700

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Acoustics and Ultrasonics3/38Q1T1D1
Condensed Matter Physics46/388Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials27/199Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films10/96Q1T1D2

SJR año:

2013

Factor de Impacto:

1.194

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Acoustics and Ultrasonics3/42Q1T1D1
Condensed Matter Physics58/397Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials31/191Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films12/99Q1T1D2
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Agencia Código de Proyecto
-SFRH/BPD/74095/2010
CAM, SpainS2009/PPQ-1642 AVANSENS
Junta de Andalucia, SpainP09-CTS- 5189; TEP5283; P10-FQM-6900
MECO, SpainFIS2012-38866-C05-05
MICINN, SpainCSD2008-00023; MAT2010-21228; MAT2010-18447
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Alvarez, R. CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Vazquez, L.CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) (Spain)
3Gago, R.CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) (Spain)
4Redondo-Cubero, A.Instituto Superior Técnico (Portugal)
5Cotrino, J.Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6Palmero, A.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)