Growth of SiO2 and TiO2 thin films deposited by reactive magnetron sputtering and PECVD by the incorporation of non-directional deposition fluxes

Alvarez, R. ; Romero-Gomez, P.; Gil-Rostra, J.; Cotrino, J.; Yubero, F.; Gonzalez-Elipe, A. R.; Palmero, A.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2013
Volumen: 210
Número: 4
Páginas: 796 - 801
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1423-10-2021
wos1423-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2013

Factor de Impacto (SCIE): 1.525

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARYSCIE112/251Q2T2D5
PHYSICS, APPLIEDSCIE65/136Q2T2D5
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE40/67Q3T2D6

SJR año:

2013

Factor de Impacto:

0.777

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Electrical and Electronic Engineering123/622Q1T1D2
Materials Chemistry61/245Q1T1D3
Electronic, Optical and Magnetic Materials52/191Q2T1D3
Surfaces, Coatings and Films26/99Q2T1D3
Condensed Matter Physics122/397Q2T1D4
Surfaces and Interfaces21/52Q2T2D5
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Agencia Código de Proyecto
Junta de AndaluciaP09-CTS-5189; TEP5283; P10-FQM-6900
Ministry of Economy and CompetitivenessCONSOLIDER CSD2008-00023; MAT2010-21228; MAT2010-18447
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Alvarez, R. Universidad de Sevilla (Spain)
2Romero-Gomez, P.Universidad de Sevilla (Spain)
3Gil-Rostra, J.Universidad de Sevilla (Spain)
4Cotrino, J.Universidad de Sevilla (Spain)
5Yubero, F.Universidad de Sevilla (Spain)
6Gonzalez-Elipe, A. R.Universidad de Sevilla (Spain)
7Palmero, A.Universidad de Sevilla (Spain)