Type of Plasmas and microstructures of TiO2 thin films prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition

Borrás, Ana; Cotrino, Joś; González-Elipe, Agustín R. 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2007
Volumen: 154
Número: 12
Páginas: P152 - P157
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus5223-10-2021
wos5123-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2007

Factor de Impacto (SCIE): 2.483

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE1/18Q1T1D1
ELECTROCHEMISTRYSCIE10/23Q2T2D5

SJR año:

2007

Factor de Impacto:

1.569

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Materials Chemistry17/241Q1T1D1
Renewable Energy, Sustainability and the Environment6/68Q1T1D1
Surfaces, Coatings and Films6/104Q1T1D1
Condensed Matter Physics43/377Q1T1D2
Electrochemistry5/28Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials16/158Q1T1D2
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# Autor Afiliación
1Borrás, AnaUniversidad de Sevilla (Spain)
2Cotrino, JośUniversidad de Sevilla (Spain)
3González-Elipe, Agustín R. Universidad de Sevilla (Spain)