Ar+NO microwave plasmas for Escherichia coli sterilization

Hueso, José L. ; Rico, Víctor J.; Frías, José E.; Cotrino, José; González-Elipe, Agustín R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2008
Volumen: 41
Número: 9
Páginas: 092002-1 - 092002-4
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1816-10-2021
wos1716-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2008

Factor de Impacto (SCIE): 2.104

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE26/95Q2T1D3

SJR año:

2008

Factor de Impacto:

1.427

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Acoustics and Ultrasonics1/37Q1T1D1
Condensed Matter Physics55/385Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials26/166Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films11/107Q1T1D2
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# Autor Afiliación
1Hueso, José L. Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Rico, Víctor J.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Frías, José E.CSIC-USE -Institute of Plant Biochemistry and Photosynthesis (IBVF) (Spain)
4Cotrino, JoséUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5González-Elipe, Agustín R.Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)