Synthesis of SiO2 and SiOxCyHz thin films by microwave plasma CVD

Barranco, A; Cotrino, J; Yubero, F; Espinos, JP; Benitez, J; Clerc, C; Gonzalez-Elipe, AR 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2001
Volumen: 401
Número: 1-2
Páginas: 150 - 158
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus5523-10-2021
wos5323-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2001

Factor de Impacto (SCIE): 1.266

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARYSCIE32/170Q1T1D2
PHYSICS, APPLIEDSCIE23/71Q2T1D4
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE18/55Q2T1D4

SJR año:

2001

Factor de Impacto:

1.046

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Metals and Alloys9/147Q1T1D1
Electronic, Optical and Magnetic Materials29/146Q1T1D2
Materials Chemistry30/215Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films13/96Q1T1D2
Surfaces and Interfaces16/49Q2T1D4
No existen datos para la revista de esta publicación.

¿En qué bases de datos está indexada la revista?
Ver información en MIAR

No existen datos para la publicación.
No exiten datos para esta publicación
# Autor Afiliación
1Barranco, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Cotrino, JUniversidad de Sevilla (Spain)
3Yubero, FCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Espinos, JPCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Benitez, JCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6Clerc, CInstitut de Physique Nucléaire Orsay (France)
7Gonzalez-Elipe, AR CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)