Growth mechanisms of SiO2 thin films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition

Yanguas-Gil, Angel ; Cotrino, J.; Yubero, F.; González-Elipe, A. R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2005
Volumen: 200
Número: 1-4
Páginas: 881 - 885
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus323-10-2021
wos223-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2005

Factor de Impacto (SCIE): 1.646

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE3/19Q1T1D2
PHYSICS, APPLIEDSCIE25/83Q2T1D4

SJR año:

2005

Factor de Impacto:

1.253

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Materials Chemistry23/236Q1T1D1
Surfaces, Coatings and Films10/105Q1T1D1
Chemistry (miscellaneous)46/365Q1T1D2
Condensed Matter Physics56/367Q1T1D2
Surfaces and Interfaces14/53Q1T1D3
No existen datos para la revista de esta publicación.

¿En qué bases de datos está indexada la revista?
Ver información en MIAR

No existen datos para la publicación.
No exiten datos para esta publicación
# Autor Afiliación
1Yanguas-Gil, Angel Universidad de Sevilla (Spain)
2Cotrino, J.Universidad de Sevilla (Spain)
3Yubero, F.Universidad de Sevilla (Spain)
4González-Elipe, A. R.Universidad de Sevilla (Spain)