Plasma-enhanced chemical vapor deposition of SiO2 from a Si(CH3)(3)Cl precursor and mixtures Ar/O-2 as plasma gas

Barranco, A.; Cotrino, J.; Yubero, F.; Girardeau, T.; Camelio, S.; Clerc, C.; Gonzalez-Elipe, A. R. 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2003
Volumen: 21
Número: 4
Páginas: 900 - 905
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus223-10-2021
wos223-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2003

Factor de Impacto (SCIE): 1.628

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE3/16Q1T1D2
PHYSICS, APPLIEDSCIE16/76Q1T1D3

SJR año:

2003

Factor de Impacto:

1.271

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics62/341Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films11/101Q1T1D2
Surfaces and Interfaces15/49Q2T1D4
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# Autor Afiliación
1Barranco, A.Universidad de Sevilla (Spain)
2Cotrino, J.Universidad de Sevilla (Spain)
3Yubero, F.Universidad de Sevilla (Spain)
4Girardeau, T.Lab de Metallurgie-Physique Bat SP2M (France)
5Camelio, S.Lab de Metallurgie-Physique Bat SP2M (France)
6Clerc, C.Institut de Physique Nucléaire Orsay (France)
7Gonzalez-Elipe, A. R. Universidad de Sevilla (Spain)