Room temperature synthesis of porous SiO2 thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition

Barranco, A ; Cotrino, J; Yubero, F; Espinos, JP; Gonzalez-Elipe, AR

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2004
Volumen: 22
Número: 4
Páginas: 1275 - 1284
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1623-10-2021
wos1723-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2004

Factor de Impacto (SCIE): 1.557

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE4/19Q1T1D3
PHYSICS, APPLIEDSCIE24/79Q2T1D4

SJR año:

2004

Factor de Impacto:

1.210

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics57/353Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films12/101Q1T1D2
Surfaces and Interfaces14/49Q2T1D3
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# Autor Afiliación
1Barranco, A Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Cotrino, JUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Yubero, FUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Espinos, JPUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Gonzalez-Elipe, ARUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)