A novel PECVD procedure for the room-temperature synthesis of SiO2 thin films with controlled porosity

Barranco, Angel ; Cotrino, José; Yubero, Francisco; Espinós, Juan P.; Contreras, Leopoldo; González-Elipe, Agustin R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2004
Volumen: 10
Número: 1
Páginas: 17 - +
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus515-01-2022
wos515-01-2022
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2004

Journal Impact Factor (JIF): 2.209

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE2/19Q1T1D2
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE11/60Q1T1D2
ELECTROCHEMISTRYSCIE10/20Q2T2D5

Año:

2011

CiteScore:

2.900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Chemistry86/351Q1T1D3
Surfaces and Interfaces15/49Q2T1D4
Process Chemistry and Technology13/36Q2T2D4

SJR año:

2004

Factor de Impacto:

1.059

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)53/352Q1T1D2
Process Chemistry and Technology8/51Q1T1D2
Surfaces and Interfaces19/49Q2T2D4
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# Autor Afiliación
1Barranco, Angel Universidad de Sevilla (Spain)
2Cotrino, JoséUniversidad de Sevilla (Spain)
3Yubero, FranciscoUniversidad de Sevilla (Spain)
4Espinós, Juan P.Universidad de Sevilla (Spain)
5Contreras, LeopoldoUniversidad de Sevilla (Spain)
6González-Elipe, Agustin R.Universidad de Sevilla (Spain)