A novel PECVD procedure for the room-temperature synthesis of SiO2 thin films with controlled porosity

Barranco, Angel ; Cotrino, José; Yubero, Francisco; Espinós, Juan P.; Contreras, Leopoldo; González-Elipe, Agustin R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2004
Volumen: 10
Número: 1
Páginas: 17 - +
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus516-10-2021
wos516-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2004

Factor de Impacto (SCIE): 2.209

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE2/19Q1T1D2
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE11/60Q1T1D2
ELECTROCHEMISTRYSCIE10/20Q2T2D5

SJR año:

2004

Factor de Impacto:

1.059

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)53/352Q1T1D2
Process Chemistry and Technology8/51Q1T1D2
Surfaces and Interfaces19/49Q2T2D4
No existen datos para la revista de esta publicación.

¿En qué bases de datos está indexada la revista?
Ver información en MIAR

No existen datos para la publicación.
No exiten datos para esta publicación
# Autor Afiliación
1Barranco, Angel Universidad de Sevilla (Spain)
2Cotrino, JoséUniversidad de Sevilla (Spain)
3Yubero, FranciscoUniversidad de Sevilla (Spain)
4Espinós, Juan P.Universidad de Sevilla (Spain)
5Contreras, LeopoldoUniversidad de Sevilla (Spain)
6González-Elipe, Agustin R.Universidad de Sevilla (Spain)