Plasma characterization of oxygen-tetramethylsilane mixtures for the plasma-enhanced CVD of SiOxCyHz thin films

Yanguas-Gil, Ángel ; Barranco, Ángel; Cotrino, José; Gröning, Pierangelo; Gonzalez-Elipe, Agustín R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2006
Volumen: 12
Número: 12
Páginas: 728 - 735
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1823-10-2021
wos1623-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2006

Factor de Impacto (SCIE): 1.679

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE2/16Q1T1D2
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE19/58Q2T1D4
ELECTROCHEMISTRYSCIE11/22Q2T2D5

SJR año:

2006

Factor de Impacto:

0.818

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)81/364Q1T1D3
Process Chemistry and Technology10/48Q1T1D3
Surfaces and Interfaces21/55Q2T2D4
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# Autor Afiliación
1Yanguas-Gil, Ángel CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS); Ruhr-Universitat Bochum (Spain)
2Barranco, ÁngelCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Cotrino, JoséUniversidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Gröning, PierangeloEmpa - Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology (Switzerland)
5Gonzalez-Elipe, Agustín R.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)