Dielectric breakdown of SiO2 thin films deposited by ion beam induced and plasma enhanced CVD.

Barranco, A; Jimenez, A; Frutos, F; Cotrino, F; Yubero, F; Espinos, JP; Gonzalez-Elipe, AR

Tipo: Ponencia
Año de Publicación: 2001
Páginas: 303 - 306
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus016-10-2021
wos016-10-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2001

Factor de Impacto (SCIE): 2.321

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONICSCIE5/200Q1T1D1

SJR año:

2001

Factor de Impacto:

2.029

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Electrical and Electronic Engineering28/432Q1T1D1
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# Autor Afiliación
1Barranco, AUniversidad de Sevilla (Spain)
2Jimenez, AUniversidad de Sevilla (Spain)
3Frutos, FUniversidad de Sevilla (Spain)
4Cotrino, FUniversidad de Sevilla (Spain)
5Yubero, FUniversidad de Sevilla (Spain)
6Espinos, JPUniversidad de Sevilla (Spain)
7Gonzalez-Elipe, ARUniversidad de Sevilla (Spain)