Voltammetry of surface redox processes perturbed by a father-son reaction

Calvente, JJ; Gil, ML; Sanchez, MD; Andreu, R ; de Pablos, F

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2000
Volumen: 45
Número: 19
Páginas: 3087 - 3097
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus524-09-2022
wos524-09-2022
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2000

Journal Impact Factor (JIF): 1.597

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
ELECTROCHEMISTRYSCIE7/16Q2T2D5

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 1,130

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
ELECTROCHEMISTRY5/36Q1T1D287,50

Año:

2011

CiteScore:

5.600

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Chemical Engineering15/257Q1T1D1
Electrochemistry6/28Q1T1D3

SJR año:

2000

Factor de Impacto:

0.978

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemical Engineering (miscellaneous)28/334Q1T1D1
Electrochemistry9/26Q2T2D4
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# Autor Afiliación
1Calvente, JJUniversidad de Sevilla (Spain)
2Gil, MLUniversidad de Sevilla (Spain)
3Sanchez, MDUniversidad de Sevilla (Spain)
4Andreu, R Universidad de Sevilla (Spain)
5de Pablos, FUniversidad de Sevilla (Spain)