Ionizing radiation damage in 65 nm CMOS technology: influence of geometry, bias and temperature at ultra-high doses

Borghello, G.; Lerario, E.; Faccio, F.; Koch, H. D.; Termo, G.; Michelis, S.; Márquez, F. J.; Palomo, F. R.; Muñoz, F.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2021
Volumen: 116
Número de artículo: 114016
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus004-12-2021
wos104-12-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2020

Factor de Impacto (SCIE): 1.589

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONICSCIE196/273Q3T3D8
PHYSICS, APPLIEDSCIE118/160Q3T3D8
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGYSCIE94/107Q4T3D9

Año:

2020

CiteScore:

3.600

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Safety, Risk, Reliability and Quality52/165Q2T1D4
Condensed Matter Physics164/411Q2T2D4
Electrical and Electronic Engineering261/693Q2T2D4
Surfaces, Coatings and Films42/123Q2T2D4
Atomic and Molecular Physics, and Optics78/192Q2T2D5
Electronic, Optical and Magnetic Materials105/246Q2T2D5

SJR año:

2020

Factor de Impacto:

0.445

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Electrical and Electronic Engineering248/655Q2T2D4
Safety, Risk, Reliability and Quality63/165Q2T2D4
Electronic, Optical and Magnetic Materials113/226Q2T2D5
Surfaces, Coatings and Films54/121Q2T2D5
Atomic and Molecular Physics, and Optics95/183Q3T2D6
Condensed Matter Physics211/410Q3T2D6
Nanoscience and Nanotechnology46/79Q3T2D6
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# Autor Afiliación
1Borghello, G.European Organization for Nuclear Research (Switzerland)
2Lerario, E.European Organization for Nuclear Research; Universita del Salento (Switzerland)
3Faccio, F.European Organization for Nuclear Research (Switzerland)
4Koch, H. D.European Organization for Nuclear Research (Switzerland)
5Termo, G.Università degli Studi di Napoli Federico II; European Organization for Nuclear Research (Switzerland)
6Michelis, S.European Organization for Nuclear Research (Switzerland)
7Márquez, F. J.Universidad de Sevilla (Spain)
8Palomo, F. R.Universidad de Sevilla (Spain)
9Muñoz, F.Universidad de Sevilla (Spain)