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Estudio de la deposición asistida por plasma de láminas delgadas de óxido de silicio y siliconas

Yanguas Gil, Angel

Tipo: Tesis
Próg. doctorado: FISICA
Lectura: 27/01/2006 en Universidad de Sevilla
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
dialnet007-03-2024
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Sobresaliente "Cum Laude"

# Autor Departamento
1Yanguas Gil, AngelNo pertenece a la US
# Director de la tesis Departamento
1Cotrino Bautista, JoseFísica Atómica, Molecular y Nuclear
2Rodr.Iguez Gonzalez-Elipe, AgustinNo pertenece a la US
# Tutor de la tesis Departamento
1Cotrino Bautista, JoseNo pertenece a la US