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(S)TEM analysis of the interdiffusion and barrier layer formation in Mn/Cu heterostructures on SiO2 for interconnect technologies

Lozano, JG ; Lozano-Perez, S; Bogan, J; Wang, YC; Brennan, B; Nellist, PD; Hughes, G

Tipo: Ponencia
Año de Publicación: 2012
Volumen: 371
Acceso abierto: Vía dorada
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus223-03-2024
wos223-03-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric
Agencia Código de Proyecto
European Commission under the Marie Curie Programme 2009-
SFI PI Program Science08/IN.1/I2052
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor Afiliación
1Lozano, JG University of Oxford; Dublin City University (United Kingdom)
2Lozano-Perez, SUniversity of Oxford (United Kingdom)
3Bogan, JDublin City University (Ireland)
4Wang, YCFEI Company (United States)
5Brennan, BDublin City University (Ireland)
6Nellist, PDUniversity of Oxford (United Kingdom)
7Hughes, GFEI Company (United States)