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High temperature "in situ" growth bu cathodic sputtering of fully oxygenated YBaCuO thin films

García López, J.; Wong, J. C.Cheang; Siejka, J.; Mercandalli, L. M.; Bisaro, R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1994
Volumen: 235-240
Número: PART 1
Páginas: 649 - 650
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus320-04-2024
wos420-04-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 1997

Journal Impact Factor (JIF): 2,199

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE3/62Q1T1D1

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,350

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
PHYSICS, APPLIED118/165Q3T3D828,79
PHYSICS, CONDENSED MATTER50/74Q3T3D733,11

Año:

2011

CiteScore:

1,900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Energy Engineering and Power Technology37/155Q1T1D3
Electrical and Electronic Engineering222/589Q2T2D4
Condensed Matter Physics183/383Q2T2D5
Electronic, Optical and Magnetic Materials90/183Q2T2D5

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

0,931

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Energy Engineering and Power Technology8/134Q1T1D1
Electrical and Electronic Engineering51/418Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials33/137Q1T1D3
Condensed Matter Physics80/311Q2T1D3
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# Autor Afiliación
1García López, J.Université de Paris (France)
2Wong, J. C.CheangUniversidad Nacional Autónoma de México (Mexico)
3Siejka, J.Université de Paris (France)
4Mercandalli, L. M.Sin datos ()
5Bisaro, R.Sin datos ()