Depth-selective 2D-ACAR studies on low-k dielectric thin films

Eijt, S. W.H. ; Van Veen, A.; Falub, C. V.; Escobar Galindo, Ramón; Schut, H.; Mijnarends, P. E.; De Theije, F. K.; Balkenende, A. R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2003
Volumen: 68
Número: 3-4
Páginas: 357 - 362
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus904-12-2021
wos804-12-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2003

Factor de Impacto (SCIE): 0.693

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGYSCIE12/33Q2T2D4
CHEMISTRY, PHYSICALSCIE79/101Q4T3D8
PHYSICS, ATOMIC, MOLECULAR & CHEMICALSCIE28/33Q4T3D9

Año:

2011

CiteScore:

2.300

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Radiation13/40Q2T1D4

SJR año:

2003

Factor de Impacto:

0.481

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Radiation14/30Q2T2D5
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# Autor Afiliación
1Eijt, S. W.H. Delft University of Technology (Netherlands)
2Van Veen, A.Delft University of Technology (Netherlands)
3Falub, C. V.Delft University of Technology (Netherlands)
4Escobar Galindo, RamónDelft University of Technology (Netherlands)
5Schut, H.Delft University of Technology (Netherlands)
6Mijnarends, P. E.Delft University of Technology (Netherlands)
7De Theije, F. K.Philips Research (Netherlands)
8Balkenende, A. R.Philips Research (Netherlands)