Systematic positron study of hydrophilicity of the internal pore surface in ordered low-k silica thin films

Escobar Galindo, Ramón ; Van Veen, A.; Schut, H.; Eijt, S. W.H.; Falub, C. V.; Balkenende, A. R.; De Theije, F. K.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2003
Volumen: 102
Número: 1-3
Páginas: 403 - 408
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus427-11-2021
wos427-11-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2003

Factor de Impacto (SCIE): 1.070

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARYSCIE61/177Q2T2D4
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE25/57Q2T2D5

Año:

2011

CiteScore:

2.900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Mechanical Engineering71/487Q1T1D2
Mechanics of Materials52/296Q1T1D2
General Materials Science92/393Q1T1D3
Condensed Matter Physics113/383Q2T1D3

SJR año:

2003

Factor de Impacto:

0.888

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Materials Science (miscellaneous)64/386Q1T1D2
Mechanical Engineering80/486Q1T1D2
Mechanics of Materials62/262Q1T1D3
Condensed Matter Physics104/341Q2T1D4
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# Autor Afiliación
1Escobar Galindo, Ramón Delft University of Technology (Netherlands)
2Van Veen, A.Delft University of Technology (Netherlands)
3Schut, H.Delft University of Technology (Netherlands)
4Eijt, S. W.H.Delft University of Technology (Netherlands)
5Falub, C. V.Delft University of Technology (Netherlands)
6Balkenende, A. R.Philips Research (Netherlands)
7De Theije, F. K.Philips Research (Netherlands)