A description of bubble growth and gas release during thermal annealing of helium implanted copper

Evans, J. H. ; Escobar Galindo, Ramón; Van Veen, A.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2004
Volumen: 217
Número: 2
Páginas: 276 - 280
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2527-11-2021
wos2427-11-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2004

Factor de Impacto (SCIE): 0.997

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
NUCLEAR SCIENCE & TECHNOLOGYSCIE8/31Q2T1D3
INSTRUMENTS & INSTRUMENTATIONSCIE17/48Q2T2D4
PHYSICS, NUCLEARSCIE14/21Q3T2D7
PHYSICS, ATOMIC, MOLECULAR & CHEMICALSCIE26/34Q4T3D8

Año:

2011

CiteScore:

2.300

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Instrumentation26/90Q2T1D3
Nuclear and High Energy Physics23/58Q2T2D4

SJR año:

2004

Factor de Impacto:

0.762

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Instrumentation19/71Q2T1D3
Nuclear and High Energy Physics24/50Q2T2D5
No existen datos para la revista de esta publicación.
No exiten datos para esta publicación
# Autor Afiliación
1Evans, J. H. Camrose Consultants (United Kingdom)
2Escobar Galindo, RamónDelft University of Technology (Netherlands)
3Van Veen, A.Delft University of Technology (Netherlands)