Growth of CrNx films by DC reactive magnetron sputtering at constant N-2/Ar gas flow

Forniés, E.; Escobar Galindo, R.; Sánchez, O.; Albella, J. M. 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2006
Volumen: 200
Número: 20-21
Páginas: 6047 - 6053
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus6304-12-2021
wos5604-12-2021
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año (SCIE): 2006

Factor de Impacto (SCIE): 1.559

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE5/16Q2T1D4
PHYSICS, APPLIEDSCIE27/84Q2T1D4

Año:

2011

CiteScore:

3.700

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics74/383Q1T1D2
General Chemistry67/351Q1T1D2
Materials Chemistry33/233Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films13/91Q1T1D2
Surfaces and Interfaces10/49Q1T1D3

SJR año:

2006

Factor de Impacto:

1.282

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)48/364Q1T1D2
Condensed Matter Physics61/371Q1T1D2
Materials Chemistry27/242Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films12/104Q1T1D2
Surfaces and Interfaces12/55Q1T1D3
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# Autor Afiliación
1Forniés, E.CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) (Spain)
2Escobar Galindo, R.CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) (Spain)
3Sánchez, O.CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) (Spain)
4Albella, J. M. CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM) (Spain)